電子行業(yè)等工業(yè)高純水工藝流程

發(fā)布日期：2011-4-8 閱覽數(shù)：3490次

電子行業(yè)等工業(yè)純水工藝流程

 該工藝采用YMRO-EDI系列電子超純水設(shè)備，適用于計算機硬盤，集成電路芯片，半導(dǎo)體，顯像管，液晶顯示器，線路板等工藝用的純水，超純水。，采用世界上最先進(jìn)的美國反滲透元件，壓力容器，高壓泵設(shè)備，配以先進(jìn)而又合理的預(yù)處理和后級處理備，生產(chǎn)出符合電子生產(chǎn)標(biāo)準(zhǔn)的水�？刂撇糠莶捎眠M(jìn)口PLC控制，可實現(xiàn)自動起停，加藥，及沖洗，自動監(jiān)測各種運行參數(shù)，并可實現(xiàn)運行參數(shù)的存儲和打印。

功能

     脫鹽率高，運行壓力低的進(jìn)口超低卷式復(fù)合反滲透膜，產(chǎn)水水質(zhì)優(yōu)良，運行成本低廉，使用壽命長。
      高效率，低噪音，品質(zhì)優(yōu)越的進(jìn)口高壓泵，減少能耗，降低運行噪聲。
      進(jìn)口在線原水及產(chǎn)品水電導(dǎo)儀，PH表可隨時監(jiān)測水質(zhì)情況。
      進(jìn)口在線產(chǎn)品水，濃水流量計可隨時監(jiān)測產(chǎn)品水量及系統(tǒng)回收率。
      配置自動循環(huán)沖洗系統(tǒng)，以備膜污染后清洗之用。
      快沖閥定時沖洗膜表面，降低膜污染速度，延長使用壽命。
      降TOC紫外線 裝置可有效降低TOC90%。
      膜脫氣裝置可使脫氣后水中溶解的氧DO小于5ppb。

運行參數(shù)

     單機出力：0.5M³/h-120M³/h
      脫鹽率：反滲透系統(tǒng)98%
      操作壓力：1Mpa-1.2Mpa
      回收率：60%-80%
      產(chǎn)品出水電陰率：16-18MΩ.cm